LAFダウンフローブース

制御された​気流に​より、​粉体の​ハンドリング時に​製品と​作業者を​保護し、​周辺環境からの​汚染リスクを​低減します。

ケルバーの​LAFダウンフローブースの​画像。

安全で​安定した​処理の​ための​制御された​気流

LAFダウンフローブースは、​ターゲットを​絞った​空気循環と​垂直気流に​よって​制御された​作業環境を​実現します。​これに​より、​安定した​条件を​維持しながら​隣接エリアを​汚染から​保護し、​粉体物質の​安全な​計量および​サンプリングを​サポートします。

メリット

高い​製品​保護性能

浮遊粒子を​制御された​方​法で​捕捉・除去する​一方​向気流​(UDAF)に​より、​制御された​環境条件を​実現します。

汚染リスクの​低減

粉体ハンドリング時の​ターゲットを​絞った​空気循環に​より、​汚染リスクを​最小化します。

作業者の​安全を​確保

各種物質の​計量および​サンプリング時に、​浮遊する​有害物質への​曝露から​作業者を​保護します。

環境条件の​安定化

製造プロセス全体を​通じて​製品の​安定性を​確保する​ために、​温度と​湿度を​最適化します。

クリーンルームクラスの​向上

クリーンルーム内の​LAFデバイスは、​クリーンルームクラスを​1レベル向上させます。​これは、​LAFが​クリーンルームクラスB環境内で​クリーンルームクラスAの​条件を​提供できる​ことを​意味します。

主な​特長

LAFダウンフローブースは、​LAFシステムの​詳細タイプの​ひとつです。​この​専用クリーンエアエンクロージャーは、​オペレーターを​保護しながら、​制御された​パーティクルフリーの​作業環境を​提供するように​設計されています。​HEPAフィルターを​通された​空気が​上部から​均一に​下方​向へ​流れる​一方​向気流​(UDAF)を​使用する​ことで、​作業エリアから​汚染物質を​排除して​その​拡散を​防ぎます。

ダウンフローブースは​通常、​大型の​半密閉構造であり、​作業者が​内部で​作業できる​ため、​医薬品の​サンプリング、​計量、​粉体ハンドリングなどの​作業に​最適です。

計量用途に​おいては、​ダウンフローブースは​わずかな​負圧を​発生させ、​オンサイト排気システムへの​接続を​必要と​せずに​周囲エリアを​汚染から​恒久的に​保護します。

LAFダウンフローブースの​主な​特長を​ご覧ください:​

クリーンルームで​安全装備を​着用した​人々
  • 循環システム⁠:一方​向気流​(UDAF)に​より、​処理中の​浮遊粒子の​制御された​ハンドリングが​確保されます。
  • HEPAフィルタリング⁠: プロセスエアと​排気エアの​両方に​H14フィルターを​使用し、​清潔な​空気環境を​維持します。
  • 陰圧制御⁠:統合型排気システムに​よって​わずかな​陰圧を​生成し、​周辺エリアへの​汚染を​防止します。
  • 独立運転⁠:計量ブースは​施設内の​給気・排気システムへの​接続を​必要としません。
  • 材料構成⁠: 自立型ステンレス鋼​(1.4301)または​鋼板設計に​より、​耐久性と​コンプライアンスを​サポートします。
  • 冷却システム⁠: 混合水制御を​備えた​統合型​冷却システムに​より、​結露の​ない​運転を​実現します。
  • 適正製造規範および​米国食品医薬品局規格に​準拠した​設計⁠: LAFシステムおよび​LAFダウンフローブースは​製薬業界の​厳格な​基準を​満たしています。

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