ラミナーエアフローシステム​(LAF)

製薬環境向けに​設計された​ラミナーエアフローシステムは、​汚染リスクを​低減して​作業者を​保護するとともに、​安定した​無菌プロセスを​支援する​ための​温度制御を​実現します。

ケルバーの​LAF​(ラミナーエアフローシステム)の​画像。

安全で​安定した​プロセスの​ための​UDAF

制御された​一方​向気流​(UDAF)に​より、​製品と​作業者を​保護します。​無菌アプリケーションを​確保して​プロセス効率を​向上させ、​さまざまな​作業エリアで​安定した​環境条件を​維持します。

メリット

高い​製品​保護性能

清浄で​乱流の​少ない​置換気流に​よって​浮遊粒子を​制御された​方​法で​捕捉・​除去し、​無菌条件を​実現します。

汚染リスクの​低減

作業エリアから​粒子を​捕捉・除去する​一方​向気流に​より、​無菌環境に​おける​汚染リスクを​最小化します。

作業者の​安全確保

液体や粉体を​含むさまざまな​物質の​ハンドリングに​おいて、​空気中の​浮遊危険物質から​製品を​保護します。

安定した​環境条件

製造プロセス全体を​通じて​製品の​安定性を​確保する​ために、​温度レベルを​最適化します。

クリーンルームクラスの​向上

クリーンルーム内の​LAFデバイスは、​クリーンルームクラスを​1レベル向上させます。​これは、​LAFは​クラスB環境内で​クラスAの​条件を、または​クラスC環境内で​クラスBの​条件を​提供できる​ことを​意味します。

主な​特長

ラミナーエアフローシステムは、​一方​向気流​(UDAF)に​より​製品を​保護します。​清浄で​乱流の​少ない​置換気流が​作業エリアに​垂直に​流れ込み、​床付近から​排出されます。​これに​より、​浮遊粒子の​捕捉と​除去を​制御された​方​法で​確実に​行うことができます。

当社の​LAFシステムの​主な​特長を​ご覧ください:​

クリーンルームで​安全装備を​着用した​人々
  • 循環システム⁠:層流の​循環に​より、​処理中の​浮遊粒子を​制御下で​ハンドリングする​ことができます。
  • HEPAフィルタリング⁠: プロセスエアと​排気エアの​両方に​H14フィルターを​使用し、​清潔な​空気環境を​維持します。
  • 材料構成⁠: 自立型ステンレス鋼​(1.4301)または​鋼板設計に​より、​耐久性と​コンプライアンスを​サポートします。
  • エア吹出口オプション⁠:穿孔プレートまたは​メンブレンディストリビューターに​より、​作業エリア全体に​均一で​低乱流の​気流を​確保し、​一貫した​パーティクル管理と​信頼性の​高い​製品保護を​維持します。
  • エア吸込口オプション⁠:本システムは、​HVACへの​接続または​事前フィルタリングされた​室内​空気の​いずれかから​給気する​ことができます。​これに​より、​既存の​施設設備への​統合や​運用が​より​容易に​なります。
  • 柔軟な​設置オプション⁠:本システムは、​機械フレームへの​設置、​天井からの​吊り下げ、​または​ピラーへの​設置が​可能です。​この​柔軟性に​より、​さまざまな​レイアウトに​対応し、​利用​可能な​スペースと​プロセス設計に​合わせて​ソリューションを​容易に​適応させる​ことができます。
  • 適正製造規範および​米国食品医薬品局規格に​準拠した​設計⁠: LAFシステムは、​業界の​厳格な​基準を​すべて​満たしています。

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