LAFワークベンチ

単方​向気流​(UDAF)に​より、​小規模から​中規模の​実験室プロセスを​保護します。

ケルバーの​LAFワークベンチの​画像。

ラボの​精度を​追求した​設計

LAFワークベンチで​安定した​無菌状態を​維持します。​低乱流垂直ラミナーエアフローシステム​(一方​向気流、​UDAF)は、​作業エリアに​清浄な​空気を​供給し、​浮遊物質を​制御された​方​法で​除去する​ことで、​ラボプロセスの​安全性を​高めます。

メリット

製品保護

クリーンで​乱流の​少ない​置換流に​よって​グレードAの​給気を​実現し、​浮遊粒子を​制御された​方​法で​捕捉・​除去します。

汚染リスクの​低減

粉体ハンドリング時、​ターゲットを​絞った​気流循環に​よって​対象範囲の​汚染リスクを​軽減します。

安定した​環境条件

製造プロセス全体を​通じて​製品の​安定性を​確保する​ための​条件を​最適化します。

コンパクトで​柔軟な​ワークスペース

この​ワークベンチは、​制御された​環境内でさまざまな卓上機器を​統合する​ための​柔軟な​スペースを​提供します。

高水準の​クリーンルーム性能

ISO 14644および​適正製造規範グレードA条件に​準拠した​クリーンルームクラス5を​実現し、​製品を​高レベルで​保護するよう​設計されています。

信頼性が​高く​メンテナンスしやすい

耐久性と​メンテナンスの​容易さを​考慮して​設計されており、​制御された​環境に​おける​清掃の​簡便化と​安全性の​確保を​実現します。

主な​特長

LAFワークベンチは、​ラボに​おける​小〜中規模の​作業プロセスに​最適な​ソリューションです。​適正製造規範グレードA条件を​維持しながら、​卓上機器の​ための​柔軟な​スペースを​提供します。

LAFワークベンチの​主な​特長を​ご覧ください:​

クリーンルームで​安全装備を​着用した​人々
  • 一方​向気流​(UDAF)​循環システム⁠: 清浄な​空気を​制御された​一方​向の​流れで​継続的に​循環させる​ことで、​安定した​環境の​維持と​汚染リスクの​低減に​役立ちます。
  • HEPAフィルタリング⁠: 高効率微​粒子​空気​(HEPA)​H14フィルターが​給気・排気の​両方から​非常に​微細な​粒子を​除去し、​高水準の​空気清浄度を​確保します。
  • クリーンルームクラス5​(ISO 14644、​適正製造規範 グレードA条件)の​提供:LAFワークベンチ は​非常に​低い​微粒子濃度を​実現し、​無菌プロセスや​精密な​プロセスに​要求される​厳格な​クリーンルーム基準を​満たします。
  • 適正製造規範および​米国食品医薬品局規格に​準拠した​設計⁠: LAFシステムおよび​LAFワークベンチは​業界の​すべての​厳格な​基準を​満たしています。​"

関連ソリューション

‎

材料搬送ソリューションの​アイコン。

LAF System

当社の​ラミナーエアフロー​(LAF)​システムは、​制御された​無粒子環境を​提供して​プロセス中の​デリケートな​製品を​保護します。

材料搬送ソリューションの​アイコン。

LAFダウンフローブース

垂直ラミナーフローを​使用して、​粉体の​ハンドリングおよび​分注の​ための​安全で​密閉された​環境を​提供する​専用ブースです。

微笑むケルバーの​従業員

お問い​合わせ

柔軟で​スケーラブルな​エンドツーエンドの​ソリューションに​ついて、​当社の​専門家に​ご相談ください。​お客様の​ニーズに​合わせて​ご提案いたします。